真空镀膜的材料及特性

真空镀膜的镀膜材料有金属和非金属。金属有铝、镕、铜、金、镍、钦、钨、相等，以铝最常用；非金属为氧化物，氧化硅和氧化铝是实用的氧化物镀膜材料。
 
　　1．真空镀铝
 
　　真空镀铝的原理是将高纯度的铝丝，如蛆．阳％纯度的铝丝，放在真空室内，当真空度达到o．叮—2．7Ph，加热温度在1咖。14M宅时，铜丝即熔化蒸发。铝分子作直线飞行，冷凝在被镀的基材表面，在基材表面形成—层连续而光亮的金属铝膜。
 
　　真空镀膜具有以下的特性：
 
　　(1)阻阴性高。真空镀膜后的RT量大大降低，如表2—15所示。衰2—15航、CPP镀铝前后的阻隔性对比
 
　　在软包装中，应用最广泛的镀铝膜是Pm、cPP镀铝膜，它又分为普通真空与加强型镀铝膜两类。
 
　　普通真空镀铝膜是在高真空状态下将侣蒸气沉淀堆积到基膜上的一种薄膜，镀铝层的厚度一般在3刃入左右(如某企业标推要求，镀铝层厚度为350Ai8％)。真空镀铝膜除具有原有基膜的机械特性外，还具有很强的装饰性和更好的阻隔性。
 
　　从表2—15中可以看出，耶T、cPP经镀铝后水蒸气、氧气的透过率及透光串大为降低，可以作为较好的阻隔性材料来使用。
 
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